阻垢劑成分有天然分散劑、膦酸、膦羧酸及膦磺酸和有機(jī)酸、聚羧酸等高分子聚合物復(fù)配制成,另外還有其他幾種輔助成分,主要成分是:
一、氨基三甲叉膦酸ATMP:
1、ATMP具有良好的螯合,低限抑制和晶格畸變;
2、鹽水成垢能防止形成水垢,特別是碳酸鈣垢的形成;
3、ATMP水和化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,不易水解;
4、在水中濃度較高時(shí),有一個(gè)很好的抑制作用。
二、羥基乙叉二膦酸HEDP:
1、是一種有機(jī)磷酸型阻垢緩蝕劑,能和鐵,銅,鋅等金屬離子形成穩(wěn)定的絡(luò)合物,能溶解金屬氧化物表面上;
2、HEDP仍可在250℃起到腐蝕和結(jié)垢了很好的作用,仍保持穩(wěn)定在較高的pH值,不易水解,在普通光下熱條件難以分解;
3、耐酸,耐堿,耐氯氧化比其它有機(jī)羧酸(鹽)。
三、乙二胺四甲叉膦酸鈉 EDTMPS:
1、是一個(gè)含氮有機(jī)多元酸,陰極腐蝕抑制劑的一部分,與無機(jī)多磷酸鹽,3至5倍的腐蝕速率相比;
2、與水混合,無毒污染,化學(xué)穩(wěn)定性和耐熱性,在200℃優(yōu)異的阻垢作用;
3、在水溶液中EDTMPS可以離解成8個(gè)正負(fù)離子,因而可以與許多金屬離子螯合,形成兩個(gè)以上的聚合物網(wǎng)狀復(fù)合物,分散在水中,鈣垢正常結(jié)晶破壞。
阻垢劑的各成分主要是通過不飽和單體在引發(fā)劑作用下共聚而成,如:
采用烯醚基聚氧乙烯與馬來酸酐或其衍生物共聚,以羧酸為側(cè)鏈,烷氧基為主鏈合成阻垢劑;
采用馬來酸酐與聚乙二醇制備馬來酸酐單酯,然后酸酐單酯與甲基丙烯酸共聚來制備阻垢劑;
采用烷氧基聚烷基二醇和丙烯酸甲酯進(jìn)行酯交換反應(yīng),所得的聚合物再與丙烯酸共聚得到阻垢劑;
用(甲基)丙烯酸與聚乙二醇發(fā)生部分酯化,合成有聚合活性的大分子單體,并與其他單體共聚得到帶有聚醚側(cè)鏈的聚羧酸型阻垢劑。